半导体过程,设施监控和控制的解决方案

半导体晶圆和微电子制造是一个苛刻的过程,几乎没有错误的空间。该行业依赖于高性能的监测和测量仪器,以进行精确的化学成分和大气条件。

Vaisala产品用于半导体制造

Vaisala为半导体提供

Vaisala为半导体制造商和MEMS铸造厂,半导体设备供应商,Fab操作员和材料供应商提供可信赖且可靠的测量。

分号工艺折射率用于散装化学和浆液递送分配以及使用点的混合,尖峰和抛光过程的在线浓度监测。

Vaisala的气压,温度和湿度的准确测量工具提供了有关制造环境的精确数据,并提供了卓越的准确性,长期稳定性和快速响应时间。

半导体 - 晶圆

湿化学实时

半导体晶圆植物在整个工厂过程中消耗大量化学物质。每种化学溶液的可靠性是Fabs的最大关注点,因为即使是规格的最小偏差也可能导致昂贵的设备污染和晶圆废料。

光刻学

晶圆光刻质量

半导体制造中的集成电路模式质量取决于步进条件。通过准确的气压,温度和湿度测量,增强精密空调和晶片步进工艺能力。

N2凝结线

压缩空气和N2过程线

如果您使用压缩空气或氮气过程线,露点测量将通过避免过度的空气干燥和设备腐蚀来帮助您节省资源。Vaisala的Drycap技术可以通过准确性和低维护需求来快速响应时间。

设施控制

设施控制

通风不足不仅会降低员工福祉,而且降低了生产率,大量降低了18%。具有准确的湿度,2,以及使用可靠,耐用和可追溯的HVAC传感器的温度测量,可以同时实现能源效率和员工福祉。

为什么Vaisala?

Vaisala是半导体行业的深入专家,也是我们客户值得信赖的合作伙伴。通过将产品设计和制造产品从化学和过程质量监测到环境空气监测到不同的关键半导体工艺,我们对业务有了彻底的内而外的了解。我们的过程理解是由我们自己的内部清洁室和为Vaisala产品制造高质量的微芯片以及用于研发目的而完成的。Vaisala致力于在整个生命周期内支持产品,并在您附近提供优质的服务和支持。