recractómetromemiconk-Patents®Pr-23-ms de Vaisala

UnRefractómetrocompacto con un cuerpo de celda de fllujo de ptfe modificado ultrapuro para para procesosquímicosquímicosLíquidossemiconductores。Conectado al proceso por un pilarde¼ -1 pulgada o accesorio acampanado。

Refractómetromemiconk-Patents®Pr-23-ms de Vaisala tiene una celda de pllujo de ptfe modificado modificado ultrapuro Informado,diseñadaparapara para para evitar evitar que todas las las las partes partesmetálicasymetálicasy corosivas y rocorosivas y contentren en contacto en contacto en contacto con elellíquidodel processo。Todas las parteshúmedasestánHechasde ptfe modificado ultrapuro。El Material del Prisma es Zafiro。

El Pr-23-ms Se Monta Directamente enlíneacon in pilar o Accesorio acampanado。ElDiseñocompacto允许Laintementaciónen un banco mojado o en un gabinete,donde la necesidad de corlactie de corlactie es muy baja。

lacompentacióndeSólidosdisueltos se descesina al ealizar unamediciónopticadeldeReRaCcióndeunasolución。La Ventaja de Este princione es que se puede lituizar el Mismo Instrumento para medir calquier productoquímico。

El Modelo Pr-23-ms Proporciona unaseñalDeMedicison数字o Continua de 4-20 ma una una unaretromentacióninmediata al Mediata al sistema al sistema d de Control,si el prodrodoquímiconoestádenturdenta denthro de las especificaciones。El Pr-23-ms es un dispositivopequeñoyfácildepensacióndepensacióndepersensacióndeprodensquímicosa granel a granel y,en el punto de uso,en a aplicaciones de Mezclado,Adicióny Monitoreo deproductoseosquímicos。

CON EL Modelo K-Patents®Pr-23-ms de Vaisala puede earlizar lo siguiente:

  • Impedir El Ingreso de Productosquímicosincorrectos en el proceso deFabricación。
  • Optimizar el proceso de grabado y aumentar lavidaútildelbañodelasolucióndegrabado(por ejemplo,koh calentado)。
  • Aumentar El Rendimiento de la oblea enlentermente en +25%y rectucir el contumo de prodrodosquímicosde limpieza(por ejemplo,sc-1 o ekc-265)en la limpieza de feol y beol y beol。
  • Lograr Un Estricto Control de las Sustermensions cmp y una mejor uniustryidad del proceso deplanarización。

Característicasclave:

  • precisióntípicade un 0.1%en peso,por ejemplo,para hcl en agua。Para SolucionesdeMúltiples组件,LaSeñalDeMediciónfunciona como una suma deverificación。
  • optica核心patentada(patente deee。Uu。NºUS6067151)。
  • conectividad dual:联合国传输PUEDE利用dos sensores。联合国Segundo传感器SE PUEDE积分FácilmenteMásTarde。
  • Rango de depentura de proceso:-20°C - 150°C(-4°F - 300°F)
  • Mediciónrápidade la tempatura de proceso中间pt1000 Informado yRessociónAutomáticade pemperatura。
  • Atex aprobado para la zona II,clasificacióndeáreaex ii 3 g eex na ii t4。
  • FM Aprobado Para Clase I,Div。2,Grupos A,B,C Y D,T6。
  • 证书csa para para clase I,div。2,Grupos A,B,C Y D,T4。
  • 证书Por ccsaus para seguridadEléctrica,传感器:Clase I,Nivel deContaminación3;Transmisor:Clase I,Nivel deContaminación2;eCtoríaDeStalaciónII。
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Beneficios Clave

Dispositivo Postimamente数字
recractómetromemiconk-Patents®Pr-33-s de Vaisala se utiliza para para el Monitoreo y Control de procesos y proporciona una unaseñaldesalida salida erida continua。El Despositivo,DeDiseñoCompacto,Se Monta Directamente enLínea。
药物精确建立
Intervalo de Medicison完整deldiCe deRefracciónndde 1,3200 - 1,5300,Que对应于A Un 0-100%En Peso。Intervalo opcional nd 1,2600 - 1,4700 para hf fuerte。precisióntípicaR.I。+ 0,0002,queTípicamente对应于0,1%en peso,por ejemplo,para hcl en agua。

LaMediciónNoestá造成了影响,伯布贾斯,Flujo turbuleno o Interivezas en in Internet extalo de ppm。
Mantenimiento Sencillo
Diseñodeelemento optico patentado en en el en e el en e el en e el en e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e en en e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e e n e el n e el en iNIRON。DISEENO patentado en。
SinDesviación。罪recalibración。罪恶ajustes麦卡尼科斯。