VAISALA K-PATENTS®HALBLEITERREFRAKTOMERPR-23-MS

EIN KOMPAKTES固定器Mit Einem Hochreinen modifizierten ptfe-durchflusszellenkörperFürnass-chemische halbleiterprozesse。Verbunden Mit Dem Prozess Durch EIN 0,25-双Bis 1- Zoll-Pillar-Oder-oder-andchlussstück。

das vaisala k-patents®HalbleIterRefraktomerPr-23-msverfügtüberEineEntimente,Hochreine,Hochreine,Modifizierte Ptfe-Durchflusszelle,DieDafürSorgt,Dass Kein Metall Metall Metall und Keine und Keine keine keine korordierenden teileenden teileenden teile teileenenden dele prozesssssigkeitsigsigsigkeitsigkeiteketn kont kont kont in kont in kont in。Alle Benetzten Teile Bestehen Aus Hochreinem modifiziertem Ptfe。DAS PRISMATERIAL IST SAPHIR。

DAS PR-23-ms Wird Direkt线性MIT EINEM Pillar-Oder flare-anschlussstückMontiert。Die Kompakte BauartErmöglicht在Eine Nassbank Oder中的Einen Schrank中的Die整合,Wo Nur Wenig Platzverfügbarist。

Die KonzentrationvonGelöstenfeststoffen wird durch eine optische messung des brechungsindexderLösungbestimmt。Der Vorteil Dieses Prinzips Ist,Dass Mit Dem GleichenMessgerätJede Chemikalie Gemessen Werden Kann。

DAS PR-23-ms Liefert Ein Kontinuierliches 4- Bis 20-Ma-oder Digitales Messsignal和Eine sofortigerückmeldungand das steuerungssystem,Wenn die die die chemikalie nicht nicht den den den spezifikifikikatikikatikatikationen entspricht。DAS PR-23-MS IST PHYSIKALISCH GESEHEN EINKLEINESGERät。eslässtSichMühelos在Der dosierung von MassenchemikalienSowiefürMisch-,Spikebildungs-undüberwachungsanwendungenvon von chemikalien vor ort einsetzen中。

MIT DEM VAISALA K-PATENTS®Pr-23-MSKönnenSie:

  • Verhindern,Den Herstellungsprozess Gelangen的Dass Falsche Chemikalien。
  • DenätzprozessOptimieren和Die Die Badlebensdauerderätzlösung(Z。B。B.erwärmteskoh)erhöhen。
  • den Waferdurchsatz in der Regel um 25%steigern und den verbrauch a renigungschemikalien(Z。B。B. Sc-1 Oder EKC-265)bei der der feol- der feol- und beol-beol-beol-reinigung reduzieren。
  • Eine Genaue kontrolle der cmp-schlämme和eine besseregleichmäßigkeitdes planarisierungsprozesses erzielen。

威奇斯特·默克马勒(Wichtigste Merkmale):

  • 典型的Genauigkeit von 0,1%Pro Gewicht,Z。B.FürHcl在Wasser中。BeiMehrkomponentenlösungen真菌Das Messsignal alsprüfsumme。
  • Patentierte Core-Optik(US-Patentnr。US6067151)。
  • DualeKonnektivität:Ein Messwertgeber Kann Zwei Sensoren Betreiben。EIN Zweiter传感器KannNachträglichQualitylos Integriert Werden。
  • Prozesstemperaturbereich bei -20…+150°C。
  • Schnelle Prozesstemperaturmessung durch eingebauten pt1000 und自动化温度。
  • Atex-Zulassungfür第二区,Gebietsklallizierung Ex II 3 G EEX NA II T4。
  • FM-ZulassungFürKlasseI,Div。2,Gruppen A,B,C UND D,T6。
  • CSA-ZERTIFIZIERUNGFürKlasseI,Div。2,Gruppen A,B,C UND D,T4。
  • CCSAUS-ZERTIFIZIERUNGFürElektrischeSicherheit,传感器:Klasse I,Verunreinigungsgrad 3;Messwertgeber:Klasse I,Verunreinigungsgrad 2;安装Kategorie II。
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Hauptvorteile

KomplettDigitalesGerät
das vaisala k-Patents®HALBLEITERREFRAKTOMERPR-33-S WIRD ZUR PORZESSTEUERUNG und-überwachungeingesetzt und Liefert Ein Kontinuierliches以太网 - Ausgangssignal。Kompakte Bauart,GerätWirdDirekt Inline Montiert。
Genaue和稳定的MessungenüberDenGesamten Bereich
Voller Messbereich des RefraktionsIndex(nd)1,3200 bis 1,5300,为0 bis 100%Pro Gewicht Entspricht。可选者bereich nd 1,2600 bis 1,4700fürstarkehf。典型的Genauigkeit ri + 0,0002,典型的0.1%Pro Gewicht Entspricht,z。B.FürHcl在Wasser中。

Die Messung Wird Nicht Durch Partikel,嘶哑,TurbulenteStrömungenOder Verunreinigungen im PPM-Bereich Beeinflusst。
Einfache Wartung
Patentiertes设计der optischen Elemente Im Imnenen。
Keine Abweichungen。keine neukalibierung。Keine Meginischen Justierungen。