ヴァイサラk-patents®半导体制造プロセス屈折率计计Pr-23-ms

ptfeフローセル纯纯薬液薬液纯度度纯フローセルフローセルフローセルフローセルが付属ししたたたた小型小型小型屈折屈折屈折1/4 ~1/4 ~1/4〜インチインチインチインチインチインチインチインチピラーまたは

K-Patents®Pr-23-ms半导体半导体向けには,どの部品ややや腐食性性部品部品处理处理とと接触接触しししないないないようようようににに设计设计さささされ超ptfe制変性変性変性変性制制制制で,プリズム素材ははサファイヤ。

pr-23-msはピラーフレアフレアを使用てにに取り付けるます。コンパクトコンパクトななな设计によりにより,ウェットベンチややキャビネットへの组み込み组み込みがが

溶解分は,溶液の屈折を光学にすることでで判明判明しししますます。このこのの利点はは,,同じ同じ计测计测机器

pr-23-msは化学浓度が仕様范囲逸脱逸脱した连続的的的的ななななな的な的的的的的的的的的のののアナログまたはまたはデジタル计测信号信号を出力しし,で物理スペースとらないため,涂布点でで化学化学物质のの混合,添加,,监视ににに关わる关わる

ヴァイサラk-patents®Pr-23-msででことこと

  • 制造プロセスのな化学の混入を防止
  • エッチングプロセス化しエッチング溶液(た水酸化カリウム溶液など)
  • 25%向上向上を通常通常向上向上およびbeol beolのの洗净における((((((((((ややややややややややなどなど
  • cmpスラリー厳格管理および化プロセス均一向上を実现実现

主な特徴

  • 标准:重量0.1%((の塩化などなどなど。。多溶液では,计测信号チェックサムチェックサムとしてとして。。
  • 特许のの核光学光学モジュール(特许特许番号番号番号番号番号番号番号番号番号番号番号番号番号
  • デュアル:1つの器ででつのセンサして可能可能。つ目つ目のセンサは后からでも简単にに
  • プロセス:-20+150°C
  • pt1000およびおよび温度によりプロセス温度高速计测を。。。
  • ATEX认定认定危険场所:II二ex II 3 G EEX NA II T4)
  • fm认定クラスi,div。2,小组A,b、 c,d,t6)
  • CSA认证クラスi,div。2,小组A,b、 c,d,t4)
  • ccsaus ccsaus认证认证:クラスi,污染度污染度污染度污染度:クラスi,,,,、2。II。II。
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特长

完全にデジタルデバイス
K-patents®半导体制造向け计计计计计计计は,プロセスプロセスプロセスモニタリングの用途用途用途に最适,,イーサネットイーサネット出力信号を常时提供ししますできます。
高精度安定た计测计测范囲全域で実现
全計測範囲で屈折率 nD 1.3200~1.5300(重量比 0~100% に相当)。高フッ化水素の場合、nD 1.2600~1.4700(オプション範囲)。標準精度は R.I.+0.0002 で、通常は重量比0.1%(中塩化など)にに。。。。

ppm范囲范囲粒子気泡,,不纯物の影响をを受けませ。。。。
容易なメンテナンス
特许取得の光学センサを内臓。
ドリフトなし再校正。机械的调整。。

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