Halbleiterqualitatsprodukte erfordern hochwertige Maschinen麻省理工学院optimalen Uberwachungsgeraten
在einemfruheren Artikel有我们Messlosungen毛皮窝Halbleiterherstellungsprozess besprochen。在diesem博客befassen我们爹妈麻省民主党Vaisala Angebot Feuchte——和Drucksensoren,死genaue Messungen毛皮Hersteller冯·Maschinen gewahrleisten死苏珥Halbleiterproduktion eingesetzt了。
贝der Herstellung冯Halbleitern萤石静脉kompletter Siliziumwafer奥得河sogar对电荷selbst军队winzige Schwankungen der Bedingungen她温,Einwirkungsdauer, Chemikalienkonzentration, Materialqualitat奥得河Kontamination verdorben了。这位Schwankungen得哒死Ursachen beseitigt了,嗯杯stabilen和•莱克特说reproduzierbaren Prozess sicherzustellen。海尔信德Messungen苏珥Anpassung verschiedener Prozessparameter entscheidend。死wichtigsten Schritte在der Siliziumwaferproduktion umfassenChemikalienreinigung, Lithografie,-entwicklung Waferbeschichtung -erweiterung和-zerteilung, Chipprufung,测试,-verpackung和把zum Elektronikhersteller。
死Messlosungen冯Vaisala毛皮Anbieter冯Halbleiterausrustung了nachstehend vorgestellt。
Chemikalienreinigung
Das ziel4 der Waferreinigung besteht达林,Chemikalien——和Partikelverunreinigungen祖beseitigen ohne死Waferoberflache奥得河Das Substrat祖茂堂verandern奥得河祖茂堂beschadigen。Da在窝meisten Reinigungstechniken Chemikalien verwendet了,是es zwingend erforderlich, dass Messsensoren这张tolerieren死去。
Vaisala Feuchtesensorenverfugen uber Chemikalienreinigungsfunktion。该死将das Sensorelement haufig erwarmt,嗯chemische Schadstoffe是不是Losemitteldampfe祖茂堂verdampfen。Dadurch是es bestandig较为chemikalienreichen Umgebungen。Der传感器selbst是欧什mechanisch geschutzt,嗯Korrosion standzuhalten。Einige Instrumente信德麻省理工学院einem Heizelement ausgestattet, das死探空仪特罗肯停止和gleichzeitig Taupunktberechnungen在Echtzeit ermoglicht。要是静脉安德利果汁传感器苏珥Messung der tatsachlichen温eingesetzt将,萤石死亡相对Feuchte auf der Grundlage des Taupunkts和der Prozesstemperaturen muhelos berechnet了。死meisten Vaisala Messgerate fuhren automatisch死去的军队。
Atzen
去der Chemikalienreinigung了Mikrostrukturen auf死Waferoberflache geatzt。所以了Verunreinigungen hinzugefugt,一张Halbleiterstruktur祖茂堂erzeugen和死verschiedenen Isolierschichten祖茂堂oxidieren。Das Ergebnis信德mehrere uberlappende层elektrischer Strukturen,死那些靠窗户komplexen Mikroprozessorchip bilden。
死zunehmende Nachfrage kleineren票和leichteren Komponenten毛皮现代Produkte是不是这套erfordert一张genauere Steuerung des Atzprozesses在民主党optische Gerate verwendet了。嗯Strukturen im Nanometerbereich herzustellen,弄乱死Einwirkung prazise盛。Selbst kleine Schwankungen des Umgebungsdrucks der relativen Feuchte和der温度能帮das optische Verhalten林斯verandern。Das bedeutet, dass死林斯basierend auf的估计值在Echtzeit Messungen angepasst了吵架。
Feuchte模具参数、温度和Umgebungsdruck信德zur Verbesserung der Qualitat auf民主党步进der死召集auf死Siliziumwafer druckt, unerlasslich。在der Zwischenzeit benotigt死Beschichtungs——和Entwicklungsmaschine Messungen毛皮瓦塞尔Geratetrocknungsprozess化生。
DerVaisala Indigo520麻省理工学院Indigo-kompatiblen intelligenten Sonden萤石als eigenstandiges Feuchtemessgerat eingesetzt了。要是mehrere Sonden notwendig信德,萤石er麻省理工学院民主党Indigo520发送方kombiniert了,der欧什苏珥Messung des absoluten德鲁克dient。
Waferzerteilung
Sobald死Halbleiterstrukturen vorbereitet信德,得死einzelnen芯片冯民主党晶片getrennt了。毛这Waferzerteilung有es verschiedene Techniken,那些死Verwendung进行激光。静脉wichtiger Schritt im埃森umfasst死Steuerung der Taubildung军队Messung der Taupunkttemperatur,当das Waferbearbeitungsband奥得河-zerteilungsband abgezogen将。死Halbleiterkomponenten了außerdem unt verschiedenen Temperaturbedingungen getestet,嗯sicherzustellen,您死erforderlichen Produktspezifikationen erfullen。Es信德verschiedene Qualitaten erhaltlich darunter皮毛韩德尔,工业,汽车,Militar和空气-和Raumfahrt。
Typischerweise了测试超级窝gesamten Temperaturbereich durchgefuhrt, beginnend贝−40°C奥得河sogar darunter。要是der测试abgeschlossen坚持和模具温度wieder ansteigt, besteht Gefahr冯Kondensation auf民主党薄片死去,死穴empfindlichen Schaltkreis beschadigen萤石。
集成在OEM
Vaisala bietet effiziente Losungen麻省理工学院einfacher集成在OEM苏珥Uberwachung derτ-和Frostpunkte窝Maschinen,死zum Testen einzelner芯片verwendet了nachdem您的军队Zerteilung vom晶片getrennt wurden。Kleine Sonden您能在一张Testkammer integriert了,嗯Echtzeitdaten gemaß窝Anforderungen bereitzustellen。DerDMT143是静脉Universalmesswertgeber毛皮verschiedenste Messungen冯−70 bis祖茂堂+ 60°C。DerDMT152是静脉Spezialmesswertgeber, der毛皮ultratrockene Bedingungen贝Temperaturen来80−−20°C optimiert坚持。
Neuen Kommentar absenden