Chemikalienschnittsteltstellenerkennung bei der waferreinigung
Reinigungschemikalien sind Die amhäufigstenverbrauchtenflüssigkeiten在einer fabrik中。标准清洁1 SC-1，标准清洁2 SC-2，VerdünnteFlusssäureDHF和Mischungen Wie Piranha Werden Verwendet，Umrückständevon von von von den den wafern Zu Zu Entfernen。Die Zufuhr Mehrerer chemikalien aus罐Zum renigungswerkzeug und dasspülenmit deionisierertem wasser diw zwischen den den schritten schrittenmüssenstreng streng streng kontrolllolliert werden，um kreuzkontaminationen Zu vermeiden。
Chemikalienschnittsteltstellenerkennung bei der waferreinigung
Fabriken Proforieren Enorm vom einsatz eines vaisala k-patents®halbleiterRefraktometers，da es folgendesermöglicht：
- kontinuierlicheüberwachungder schnittstellezwischenflüssigkeitenundgewährleiStungeines eines durchgehenden flusses von den von den den den tanks zum re renigungswerkzeugswerkzeug
- Sofortige Umschaltung Zwischen Reinigungschemikalien und diw
我是Anwendungshinweis von Vaisala wirderklärt，Wie Mit Einem halbleiterRefraktomerder der prozess dank empfohlener empfohlener montagestellefüroptimale le optimale lecterale leistale leistung verbessert verbessert werden werden werden werden kann。
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