überwachungvon und fehlererkennung在Fabrikchemikalienprozessen
Chipqualität in Halbleiterfertigungsprozessen wird typischerweise als die Verringerung der Variabilität um das Ziel herum definiert, oder anders ausgedrückt, wie gut die Verteilung zwischen den unteren und oberen spezifizierten Grenzen liegt.QualitätskritischeMerkmale（对质量至关重要，CTQ）和DIE EINHALTUNG VON KUNDENANFORDERUNGUNGENGENGENGENGENGENGENGENNFORDENGENSSPIELEN EBENFALLS EINE WICHTIGE ROLLE。eine zu hohevariabilität在derferfigungführtschnell zu sigardenproduktqualität中。Um Eine Stabile Marktversorgung Mit Guten ProduktenZuGewährleisten，SindGründlicheDaliThsmetrikenund prozesssteuerung erforderlich。Einen Wichtigen Teil derProduktqualität和Herstellung Stellen Chemikalien dar。在Den Halbleiterwaferanlagen WerdenWährenddes Gesamten Herstellungsprozesses Tonnen von von chemikalien verbraucht。Wiederholbarkeit和Ropoduzierbarkeit Jedes Prozesses Haben Daher OberstePriortität。Selbst Die Geringste Abweichung von der Spezifikation Kann Eine Kostspiel Kontamination derGeräteand Ausschuss von wafern verursachen。
derüberwachungvon und fehlererkennung的Anwendungen在Fabrikchemikalienprozessen
Vaisala bietet eineZuverlässige，präziseund Kosteneffiziente Inline-Messtechnik，in Der Nass-chemischen Analytik中的EchtzeitfürKonzentrationsmessungen。DIESE KANN KOSTSPIELIGE和KOMPLEXEANALYSEGERäteErsetzen，Diefüriedieüberwachungvon und Fehlererkennung，位于Fabrikchemikalienprozalienprozalienprozessensowiefürdie kontrolle die kontrolle der cmp -schlammzusammensetzung und -konensetzung und -konzentration n die kontrolle die kontrolle die kontrolle。
白皮书
内联布里顿（Brechungsindex）
在CMP-SCHLämmenZu Qualifizieren中，Inline-Messungen des Brechungsindex SindDasGängigeVerfahren，Um Den Wasserstoffperoxidgehalt。der peroxidgehalt ist jedoch nicht die einzige Interseste schlammmetrik。typischerweisewerdenschlämmevom hersteller在konzentrierter形式的geliefert和der fabrik mit Wasser wasser und peroxid peroxidverdünnt中。obwohl die schlammdichte ein krititischer参数fürdie cmp-leistung ist，kann die eingangsdichte von von Charge Zu Charge Zu Charge variieren。
inline-brechungsindex ersetzt自动授予zur pegizierung derh₂o₂-konzentration in CMP von wolfram
Brechungsindexmessungen haben sich alsgängigesverfahren zur pegizierung des peroxidgehalts inschlämmenfürcmp cmp von von wolfram etabliert。在Vielen Neu Entstehendenprozessabläufenkommt cmp als wichtigeshilfsmittelfürden aufbau von von von von schaltkreisstrukturukturen zum einsatz。DADUCH WERDEN SOWOHL DIE ANZAHL DER CMP-SCHRITTE ALS AUCHMöglicheErtragsverlusteErhöht，Wenn Die Schlammzusammensetzung von der Spezifikation abweicht。während自动授予MessungenäußerstGenaue ErgebnisseLiefernKönnen，Verursachen Sie HoheInvestitionsgüterküterkoutkoutküterkostenund laufende wartungskostenunmöglichenandermöglichennur getrennte nur getrennte probennte probennte progennte probennte in festgelegten Investallen。Der Brechungsindex，Eine Kontinuierliche Messung，Bei der Kein Schlamm verbraucht Wird，Hilft Fabriken Dabei，Fehler，Fehler，in der Schlammzusammensetzung schnell schnell Zu Erkennen，Um DieAnzahlGefährdeterWafährdeterWafährdeterWafer Wafer Zu Zu verricern。
内列 - überwachungdes brechungsindex Zur Erkennung von cmp-Schlammfehlern
inline-brechungsindexmessungen haben sich alsgängigesverfahren zur erkennung von fehlern in der Mischung und dosierung dosierung von cmp-schlämmenführenderfabriken fabriken etabliert。Der Brechungsindex，Eine Kontinuierliche Messung Ohne Probenahmen，UnterstütztFabriken dabei，änderungen，inder Schlammzusammensetzung schnell Zu Zu Erkennen。
nach der kalibierung auf温度 - /brechungsIndexeigenschafenen eines besimmten schlammskönnenbrechungsindexmessungen die konzentration von wassostfperoxid imschlamm schlamm schlamm schlamm einer einer einer genauigkeit von genauigkeit von von von von±0,02％proumsch best fram usmen besmen jmmen jmmen jmmen jmmen dud fim up kupen。In Langzeitstudien an dieser Spitzenfabrik konnten Messungen für CMP-Prozesse mit Low-Node-Technologie drei Jahre lang zuverlässig Schlammzusammensetzungen nachweisen, ohne dass die Messgeräte über das routinemäßige Spülen des Schlammmischertanks hinaus gewartet werden mussten.
位于der halbleiterfertigung中的位于原位的von vonchemikalienfürchemikalienbeschaffung
DieQualitäteingeHenderchemikalien wurde denchemikalienlieferantenüberlassen。HalbleterHerteller Sind Nur SehrEingeschränktOder Gar Nicht在Der Lage，问题Mit Mit Den Prozesschemikalien ihrer Ihrer Lieferanten festzustellen。Es Wurde Ermittelt，das das produkt jeglichenänderungeneingehender chemikalien ausgesetzt ist，unabhängigvon der ursache，dem lieferanten，der Mechanik oder der人。TatsächlichKann Gesagt Werden，Dass das produktalsüberwachungsmittelFürdie chemikalien dient。在Diesem白皮书中，WerdenVerschiedensteüberwachungsmethodenErörtert。Es Werdenbewährteverfahrenfüreinekosteneffiziente anwendunge eine eine vielzahl von halbleiterchemikalithien vorgeschlagen。Dielösungdes gesamtproblems Stellt nicht eineinzelnesgerätoder schema dar，sondern eine reine reihevongeräten和eineänderungungdes grundergenden denkenden denkens in im bereich im bereich derich der der der chemicikalienverteilung。unterstützendedaten undere siesseante实验Ergebnisse werden ebenfalls Besprochen，Um Die Ergebnisse Zu ZuUnterstütountützen和Zu Untermauern。
ProdukteFürFabrikchemikalienprozesse
VAISALA K-PATENTS®HALBLEITERREFRAKTOMERPR-33-S
