1. 家
  2. 半导体：procesoquímicodeFabricación

Monitoreo de los procesosquímicosdeFabricaciónydeteccióndefallas

en las aplicaciones de monitoreo de procesos，se debe mantener laquímicadeseada a lo largo del tiempo。El aplicaciones dedeteccióndefallas，el Sistema debe verificar que esestédistribuluyendo el prodrodoquímicoprodineo recorpero al proceso。Con Un Monitoreo Preciso，Los Fabricantes conocen lacomposicióndecada flumojoquímicodado。Sin Monitoreo，Las obleas se Convierten en los MonitoresQuímicosde Facto。帕拉·埃斯·米斯托（Para Ese Momento），拉斯（Las obleas）ya sehabíanperdido y la lacontaminacióndel Equipo a Gran escalapodríaHaberocurrido。

Elractómetrodeemiconductores k-patents®de vaisala ofrece monitoreo delíquidosen tiempo en tiempo real y evita que se que se distribuluyan compentuyan compentuesesquímicasquímicasquímicasigorrectas en las en las en las obleas，indica el Monso de lainyección，p。EJ。para agua en ekc en la laleminación残留的后部al grabado e nifya la vida delbañoy la la la la la la la la la la la la la la e en el el el el el el el el el el el el el el silicio de silicio。

aplicaciones en el Monitoreo de los procesosquímicosde laFabricaciónydeteccióndefallas

Vaisala ofrece metrología en línea, en tiempo real, confiable, precisa y rentable para mediciones de concentración de química húmeda que puede reemplazar a los costosos y complejos analizadores que se utilizan en el monitoreo de los procesos químicos de la fabricación y la detección de fallas,Asícomoel Control de la la de la lacomposicióndelasusedensióncmp。

mezcladeperóxidoydispensaciónencmp

sistemas de procesocríticos：Monitoreo de la la lapensocióndeperóxidodehidrógenoh2o2u otro代理人氧化剂杜兰特·埃尔·普罗克索（Durante el proceso dePlanarizaciónmecánicaquímica）（CMP，化学机械平面化）。

通知Técnicos

derefracciónenlíneaen la lacaracterizacióndelensayo de la lechada cmp fresca y efluente entrante entrante entrante entrante

Las Mediciones del derefracciónEnLínea（ri）儿子LaTécnicaDeelecciónparapara para calificar el contenido deperóxidodehidrógenoen suppersiones cmp cmp。罪恶禁运，El Contenido dePeróxidono eslaúnicaMedidadeInterésdelasessenión。POR LO，El Fabricante Entrega las悬架En Forma compenta y luego lus diluye con agua yperóxidodurante laFabricación。Aunque la densidad de lasudseniónes unparámetroCríticopara el rendimiento de cmp，la densidad entrante entrante puede puede variar de un lote a otro。

ElíndicedeRefracciónEnLíneareemplazalaTitulaciónAutomáticaal Calificar la la la la la la la la la la la la lah₂o₂encmpdeh₂o₂

Las Mediciones del derefracciónsehan spoteecido como latécnicadeelecciónpara para para calificar el contenido deperóxidoen lechadas en lechadas para para cmp de tungsteno。Muchos flujos de procesos emergentes utilizan CMP como una herramienta crítica para construir estructuras de circuitos, lo cual aumenta drásticamente la cantidad de pasos de CMP y, por lo tanto, la cantidad de oportunidades de pérdida de rendimiento si la composición de la suspensión se desvía delaespecificación。si bien las Mediciones devaloraciónatutoMáticapueden dar dar dar darados oxtremademente precos，Ingigen Grandes Equipos de Capital y Costos de Mantenimiento continuos y solocen y ofrecen Muestras distectas extros extros a Intercepalos esspalosespecíficficos。ElíndicedeRefracción，UnaMedicisónContinua que no消耗susedenión，Ayuda a los Fabricantes a sidentificarrápidamentelas fallas de la lacomposiciónde la mezcla，lo lo le lo lo que降低了Elnúmerodemero de obleas de bobeas de obleas en riesgo。

Monitoreo del deRefracciónenLíneaparadeteccióndefallasde lechada cmp

Las Mediciones del del deRefracciónenlínease han spostecido como latécnicadeelecciónparapara dectarfallas en la mezcla de lasusedensióncmpy los sistemas ddispensacióndepsensacióndeprachanteslídebaindanteslídebainteslíderes。ElíndicedeRefracción，Una Medicison Continua continua sin Muestreo，Ayuda a los Fabricantes asidentifificarrápidamentelos cambios en la la lacomposicióndeesasusedensión。

Una vez calibradas según las características específicas de la temperatura y/o el índice de refracción de una suspensión, las mediciones del índice de refracción pueden determinar la concentración de peróxido de hidrógeno en la suspensión con una precisión de ± 0,02 % en peso,Tanto Para las Suspensiones de Cobre Como de Tungsteno。En estudios a largo plazo en esta fabricación de vanguardia, las mediciones para procesos CMP de baja tecnología de nodo detectaron composiciones de la suspensión de manera confiable durante tres años, sin mantenimiento del instrumento más allá del lavado rutinario del tanque mezclador de la suspensión.

Monitoreoquímicoen suministrosquímicosdeFabricacióndeemicinductores

La CalidadQuímicaEntrante se ha dejado a Los progeedores de productosquímicos。los Fabricantes de emiciconductores tienen una una una limitada o nula para检测问题con los procesosquímicosquímicosde sus progeedores。seConstatóqueel Productoestáexpuesto cualquier cambioquímicoentrante，sin Expirectar la causa：Provocada por el pro pro pro pro proveedor，fallaMecánicao humana。de hecho，se puede decir que el producto se utiliza comométodode monitoreo de los productosquímicos。Este Documento Analiza variasverogogíasde Monitoreo distintas y sugiere las mejoresprácticaspara unaaplicaciónableablepara una una amplia amplia vardiedad de prodrodosquímicosde semiconductores。La solución al problema general no es un único dispositivo o esquema, sino más bien un conjunto de dispositivos y un cambio en el pensamiento fundamental en el área de distribución química.tambiénSeAneizaránOtrosdatos de respaldo y otros ussados实验者相关性para apoyar y reforzar los los hallazgos。