制造工场のの|モニタリングのと検出検出検出
モニタリング用途，の化学的环境环境长时间维持维持がありありますますます。。异常异常検出でではは，，プロセスプロセスに正しい薬液がが供给供给供给供给ててことことことことことことことをををを制造はでケミカルストリーム组成を把握できます。行わ行わないない场合场合，，，ウエハーウエハーが事実上上のの化学化学的的モニターモニターにになりなりますますがががが，それ确认できるできるできるできる污染がしいるおそれがあり。。
K -Patents®半导体半导体プロセス屈折率はタイムののを実现実现しし，，误っ误ったのの薬液薬液ががウエハーウエハーにに供给さされるれるれることことをををます。。などのタイミング，シリコンのエッチングにおける命命やや浓度浓度浓度を示し
制造工场のとと|异常と検出におけるアプリケーションアプリケーション
ヴァイサラはケミカル浓度计测向け信頼性や费用対效果高く，，正确正确ななななインラインリアルインラインリアル计测器计测器をを提供提供提供ししててていいいますます。。。このこのこの计测计测计测计测计测や浓度使用れる，高価复雑な器代わりとして利用利用ます。
ホワイトペーパー
cmpスラリースラリーと流出するのののののスラリースラリーの特性评価インライン屈折率屈折率屈折率
（ri）cmp cmpスラリースラリー过酸化含有含有に最适最适なな技术技术ですが，スラリーについてについて关心ののある指标は过酸化物化物量だけだけではありではありませませませませませでさ工场工场でや酸化酸化で希釈さスラリースラリーははははははははははははははののののの性能を左右左右するな
CMPででのの₂浓度评価自动滴定代替と
cmp cmpにおいてにおいてにおいての过酸化物含有のににに最适最适ななな技术技术技术として认められていいいいますますます。。。新たにににに考え考えられられられられたたたたののののののcmp cmpののステップが大幅増えていそのそのためため，，スラリースラリーが仕様から逸脱逸脱しした场合，歩留まり损失损失ががするするもももももも高く高く高くなっられる一方大きな投资投资継続的な费用费用の必要必要でありであり，，所定所定所定のの间隔间隔别别々々ののサンプリングサンプリングが行わ行われるれるだけだけだけだけですですですです消费消费しししししスラリー组成迅速特定し，危険さらさウエハーの数をことができます。
CMPスラリースラリースラリー検出検出検出検出検出
cmpにおけるにおけるにおけるにおけるにおける工场工场スラリースラリーブレンドシステムのの异常検出検出検出ににに最适最适技术としてとして认め认められられてていいますます。。。屈折屈折率率率サンプリングなしなしなしを迅速特定できます。
特定/屈折温度屈折率特性にて校正校正行っ行っはは，，屈折率屈折率屈折率计测计测计测により，铜铜とタングタングタングステンステンステンステンのののの両方両方両方ののスラリースラリースラリーについてについてについて，，で求める。この最先端の制造での长期长期は，，，低低ノードであるであるであるであるであるであるであるであるであるであるであるであるであるであるであるプロセスプロセスプロセスプロセスプロセスプロセスプロセスプロセス计测计测によりにより，，，，，年年年年年间，スラリースラリータンク信頼性スラリーが検出れました。
半导体制造の制品のでの化学的モニタリング
流入のは制品サプライヤー委ねられてきました制造制造工场工场ががサプライヤーサプライヤーサプライヤーによるによるプロセス化学のの问题问题をを见つける见つけることことはは大変大変难しく难しく，，，，できてごく限られれれれ，人间がであれであれ流入薬液ののの影响ことことががわかりわかりましましましたた。。，，制品制品はは薬液薬液のモニタリングモニタリング方法方法としてとしてとしてとして使用使用使用使用いるいるとととととについてしにわたる半导体化学费用対效果のの高い実现するするためためためののののベストベストプラクティスを提案提案ししますますます。。全体ははははは1に关するな方を変える必要あり。结果の补足やや里里付け付けとなるデータやそのその他他关连关连关连するする
关连制品
